三星显示申请沉积掩模及其制造方法专利与隔膜由不同的材料制成的至少一个异质材料图案设置在肋区上或者至少一个凹槽形成在肋区中

　　邦度常识产权局讯息显示，三星显示有限公司申请一项名为“浸积掩模、创设浸积掩模的格式以及电子装备”的专利，公然号CN121620088A，申请日期为2025年8月。

　　专利摘要显示，本公然涉及浸积掩模、创设浸积掩模的格式以及电子装备。浸积掩模席卷：掩模框架，具有单位启齿；以及隔阂，配置正在掩模框架上，而且隔阂具有联贯到单位启齿的众个像素启齿。隔阂席卷控制像素启齿的肋区。与隔阂由差异的质料制成的起码一个异质质料图案配置正在肋区上，或者起码一个凹槽变成正在肋区中。

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